ZH5498多靶磁控濺射鍍膜機

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產(chǎn)品名稱: ZH5498多靶磁控濺射鍍膜機

產(chǎn)品型號: ZH5498

產(chǎn)品展商: ghitest

產(chǎn)品文檔: *相關(guān)文檔

簡單介紹

該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。該鍍膜機為前開門式設(shè)計，功能強，鍍膜穩(wěn)定，重復(fù)性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范，，了材料的成膜*度。

ZH5498多靶磁控濺射鍍膜機 的詳細介紹

產(chǎn)品簡介
該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機為前開門式設(shè)計，功能強，鍍膜穩(wěn)定，重復(fù)性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范，**，了材料的成膜*度。
采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組，具有抽速快，*油，操作方便快捷，易于維護的特點。
1     鍍膜方式：可實現(xiàn)多靶共濺模式
2     磁控靶：圓柱/平面靶；
3     進氣系統(tǒng)：三路流量計；
4     鍍膜室體積：500×500×600mm3
5     限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復(fù)真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6     真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成；
7     真空測量系統(tǒng)：數(shù)顯復(fù)合真空計；
8     工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
9     工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；
10    選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；
11    供電電源：三相AC380V，50Hz

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